Gyeon Q2M Compound 1L

Gyeon Q2M Compound 1L

Gyeon

Gyeon Q2M Compound - це сучасна сильно ріжуча полірувальна паста, що забезпечує високу ефективність і рівень видалення подряпин в поєднанні з дуже низьким рівнем пилу і незрівнянної обробкою. Створений на водній основі.

не містить силіконів і наповнювачів.

Idealanie працює з полірувальними хутрами, твердими полірувальними подушками і подушечками з мікрофібри.

призначений для використання роторних і подвійної дії машин.